I. 半導体製造用ケミカルス
１．半導体原料
シリコン／ゲルマニウム／ガリウム／インジウム／ヒ素／リン／
アンチモン／化合物半導体（(1) ガリウム・ヒ素 (2) ガリウム・リン
(3) インジウム・リン）
２．成膜用ケミカルス
モノシラン／ジシラン／トリシラン／四塩化ケイ素／ジクロロシラン／
トリクロロシラン／四フッ化ケイ素／ゲルマン／テトラエトキシシラン／
亜酸化窒素
３．ドーピング用ケミカルス
アルシン／ホスフィン／ジボラン／オキシ塩化リン／三塩化リン／
三塩化ホウ素／三フッ化ホウ素／三臭化ホウ素
４．ドライエッチング用ケミカルス
四塩化炭素／四フッ化炭素／六フッ化硫黄／三フッ化窒素／塩素／
フロンガス
５．ウェットエッチング用ケミカルス
フッ化水素酸／リン酸／過酸化水素／フッ化アンモニウム／硝酸／
塩酸／硫酸
６．フォトリソグラフィー用ケミカルス
6.1 フォトレジスト ネガタイプレジスト／ポジタイプレジスト
6.2 レジスト現像液：キシレン
７．高純度ガス 水素／窒素／酸素／ヘリウム／アルゴン／
六フッ化タングステン
８．スパッタリング用ターゲット
９．封止材料
9.1 樹脂封止材 エポキシ樹脂／ポリフェニレンサルファイド樹脂
9.2 セラミック封止材
9.3 シリカフィラー
II. プリント配線板用ケミカルス
１．硬質基板用樹脂 フェノール樹脂／エポキシ樹脂／ポリイミド樹脂／
変性ポリイミド樹脂
２．フレキシブル基板用フィルム
ポリエステルフィルム／ポリイミドフィルム／ポリパラバン酸フィルム／
フッ素樹脂フィルム
３．セラミック基板用材料 アルミナ／窒化アルミニウム／炭化ケイ素
４．レジスト類
エッチングレジストインキ／メッキレジストインキ／
ソルダーレジストインキ／マーキングインキ／
電着フォトレジスト／ドライフィルムレジスト
５．銅箔用エッチング液 塩化第二鉄／塩化第二銅／過硫酸アンモニウム
６．導電性ペースト
III. ディスプレー用ケミカルス
１．LCD用ケミカルス
液晶ミクスチャー／ITOターゲット材／カラーフィルター用ケミカルス
（顔料分散型レジスト・オーバーコート剤）／アルカリガラス基板封止剤／
配向処理剤／スペーサー／異方性導電膜／電極保護コート剤／シール剤
２．ラズマディスプレー用ケミカルス
蛍光材料／封入ガス／隔壁材料／電極材料／誘電体材料／保護膜材料／
パネル封着（シール）材
３．EL素子用ケミカルス 分散型EL素子／無機薄膜EL素子／有機EL素子
IV. プリンター用ケミカルス
１．レーザープリンター用ケミカルス
電子写真感光体／電子写真用トナー／トナー用レジン／
トナー用キャリア・磁性粉／トナー用荷電制御剤
２．インクジェットプリンター用ケミカルス
３．感熱記録用ケミカルス 発色剤／顕色剤／増感剤
４．感圧記録用ケミカルス 発色剤／顕色剤／カプセルオイル
５．溶融・昇華転写用ケミカルス 溶融転写用色素／昇華転写用色素
V. 記録メディア用ケミカルス
１．記録メディア用ケミカルス
1.1 磁気記録用ケミカルス（磁性粉）
(1) ガンマ酸化鉄 (2) コバルト−ガンマ酸化鉄
(3) コバルト−マグネタイト酸化鉄
1.2 光磁気記録用ケミカルス
1.3 光記録用ケミカルス
Te系アンチモン合金／Te系カルコゲナイド合金／近赤外吸収色素
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