| 執筆者一覧 |
| 中村慶久 | (独)科学技術振興機構 JSTイノベーションプラザ宮城 館長、東北大学 名誉教授 |
| 村岡裕明 | 東北大学 電気通信研究所 教授 |
| 田中陽一郎 | (株)東芝 デジタルメディアネットワーク社 ストレージデバイス事業部 HDD商品企画部 部長 |
| 山川清志 | 秋田県産業技術総合研究センター 高度技術研究所 主席研究員 |
| 押木満雅 | 情報ストレージ研究推進機構 常務理事 |
| 伊勢和幸 | 秋田県産業技術総合研究センター 高度技術研究所 主任研究員 |
| 逢坂哲彌 | 早稲田大学 理工学術院 教授 |
| 杉山敦史 | 早稲田大学高等研究所 客員准教授 |
| 安藤康夫 | 東北大学 大学院工学研究科 応用物理学専攻 教授 |
| 湯浅新治 | (独)産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門 スピントロニクス研究グループ 研究グループ長 |
| 佐橋政司 | 東北大学 大学院工学研究科 電子工学専攻 教授 |
| 大内一弘 | 秋田県産業技術総合研究センター 高度技術研究所 名誉所長 |
| 島津武仁 | 東北大学 電気通信研究所 IT21センター 准教授 |
| 有明順 | 秋田県産業技術総合研究センター 高度技術研究所 主席研究員 |
| 園部義明 | HOYA(株) MD事業部 開発センター チーフ・テクノロジスト |
| 鈴木淑男 | 秋田県産業技術総合研究センター 高度技術研究所 先端技術開発グループ 上席研究員 |
| 石尾俊二 | 秋田大学 副学長・教授 |
| 棚橋究 | (株)日立製作所 中央研究所 ストレージ・テクノロジー研究センタ 主任研究員 |
| 細江譲 | (株)日立製作所 中央研究所 ストレージ・テクノロジー研究センタ 主管研究員 |
| 荒井礼子 | (株)日立製作所 中央研究所 ストレージ・テクノロジー研究センタ 主任研究員 |
| 二本正昭 | 中央大学 理工学部 教授 |
| 大沢寿 | 愛媛大学 大学院理工学研究科 電子情報工学専攻 教授 |
| 岡本好弘 | 愛媛大学 大学院理工学研究科 電子情報工学専攻 准教授 |
| 仲村泰明 | 愛媛大学 大学院理工学研究科 電子情報工学専攻 助教 |
| 高野公史 | (株)日立グローバルストレージテクノロジーズ 技術開発本部 本部長 |
| 沼澤潤二 | 東北大学 電気通信研究所 教授 |
| 田上勝通 | TDK(株) SQ研究所 所長 |
| 本多直樹 | 秋田県産業技術総合研究センター 高度技術研究所 副所長 |
| 喜々津哲 | (株)東芝 研究開発センター 記憶材料・デバイスラボラトリー 室長 |
| 松本幸治 | (株)富士通研究所 ストレージテクノロジ研究部 主任研究員 |
| 中川活二 | 日本大学 理工学部 電子情報工学科 教授 |
| 構成および内容 |
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| 第1章 | 序論―研究開発の発端・経緯・将来展望―(中村慶久) |
| 1 | はじめに |
| 2 | なぜ垂直磁気記録だったのか |
| 2.1 | それは記録減磁の研究から始まった |
| 2.2 | 回転磁化から垂直磁化へ |
| 3 | どのようにして垂直磁気記録を可能にしたか |
| 3.1 | 最初の実験はこうして始まった |
| 3.2 | 垂直磁気記録の原型はこう決まった |
| 3.3 | 垂直磁気記録の春から冬 |
| 3.4 | 冬からの脱出、そして開花 |
| 4 | これからの垂直磁気記録 |
| 4.1 | 高密度化の課題 |
| 4.2 | さらに高密度化のために |
| 5 | むすび |
|
| 第2章 | 垂直磁気記録の原理と特徴 |
| 1 | 記録・再生原理(村岡裕明) |
| 1.1 | はじめに |
| 1.2 | 長手記録における減磁界と記録分解能 |
| 1.3 | 記録媒体ノイズとナノ微細構造 |
| 1.3.1 | ノイズと微細磁気構造 |
| 1.3.2 | 熱磁気緩和 |
| 1.4 | 微粒子構造を持つ記録媒体における面記録密度限界 |
| 1.4.1 | 飽和記録可能な条件 |
| 1.4.2 | 熱的に安定な条件 |
| 1.4.3 | 粒子サイズとジッタの関係 |
| 1.5 | 次世代の垂直磁気記録方式への展望 |
| 2 | 記録特性評価技術(田中陽一郎) |
| 2.1 | 記録性能評価 |
| 2.1.1 | 記録分解能 |
| 2.1.2 | オーバーライト性能 |
| 2.1.3 | トラックエッジ |
| 2.1.4 | 記録歪と非線形性 |
| 2.2 | 再生性能評価 |
| 2.2.1 | 再生分解能 |
| 2.2.2 | 再生感度 |
| 2.2.3 | ビット間干渉 |
| 2.2.4 | 再生非線形性 |
| 2.3 | 記録密度性能評価 |
| 2.3.1 | 線記録密度 |
| 2.3.2 | トラック密度 |
| 2.3.3 | ノイズ |
|
| 第3章 | 磁気記録ヘッド技術 |
| 1 | 単磁極記録ヘッドの原理と構造設計(山川清志) |
| 1.1 | 単磁極ヘッドの基本構造と動作 |
| 1.2 | 先端励磁型単磁極ヘッド |
| 1.2.1 | 先端励磁型単磁極ヘッドの種類と特徴 |
| 1.2.2 | カスプコイル型単磁極ヘッドの特性 |
| 1.3 | 単磁極ヘッドの高密度化設計 |
| 1.3.1 | 高分解能化 |
| 1.3.2 | 高記録磁界化 |
| 1.3.3 | 高密度記録用ヘッドの具体的設計 |
| 2 | 単磁極ヘッドの技術課題と対策(押木満雅) |
| 2.1 | 大記録磁場 |
| 2.1.1 | 高飽和磁束密度軟強磁性材料 |
| 2.1.2 | 最適形状(配置) |
| (1) | 先端駆動(励磁) |
| (2) | 磁極形状の最適化 |
| 2.2 | 時間的に忠実な記録磁場 |
| 2.2.1 | 低インダクタンス |
| 2.2.2 | 残留磁化および磁気余効の抑制 |
| 2.3 | 空間的に忠実な記録磁場 |
| 2.3.1 | ダウントラック(記録媒体円周)方向の急峻化 |
| 2.3.2 | オフトラック(記録媒体半径)方向の急峻化 |
| 2.4 | 超精密製造技術 |
| 2.4.1 | 薄膜パターンファブリケーションプロセス |
| (1) | 薄膜成膜 |
| (2) | パターン形成プロセス |
| 2.4.2 | 超精密機械加工 |
| 3 | シールドプレーナ型ヘッド(伊勢和幸) |
| 4 | 磁気ヘッドコア用高Bs材料(逢坂哲彌、杉山敦史) |
| 4.1 | はじめに |
| 4.2 | 磁気ヘッドコア材料の変遷 |
| 4.3 | ナノ結晶による軟磁気特性の改善 |
| 4.4 | 電気めっき法によるナノ結晶の作製 |
| 4.4.1 | CoFeNi薄膜 |
| 4.4.2 | CoFe薄膜 |
| 4.5 | ナノグラニュラーによる軟磁気特性の向上 |
|
| 第4章 | 再生磁気ヘッド技術 |
| 1 | 磁気抵抗効果再生磁気ヘッドの基本原理(安藤康夫) |
| 1.1 | はじめに |
| 1.2 | 異方性磁気抵抗効果 |
| 1.3 | 巨大磁気抵抗効果 |
| 1.4 | トンネル磁気抵抗効果 |
| 1.5 | 磁気抵抗効果を利用した再生磁気ヘッド |
| 1.6 | おわりに |
| 2 | 各種MR効果の進展と将来展望(湯浅新治) |
| 2.1 | 磁気抵抗効果(MR効果)とは |
| 2.2 | 巨大磁気抵抗効果(GMR効果) |
| 2.2.1 | Fe/Cr多層膜のGMR効果 |
| 2.2.2 | Co/Cu多層膜のGMR効果 |
| 2.2.3 | CIP、CPP、スピンバルブ構造 |
| 2.2.4 | GMR効果の工業応用 |
| 2.3 | アモルファスAl-Oトンネル障壁のトンネル磁気抵抗効果 |
| 2.3.1 | トンネル磁気抵抗効果(TMR効果)とは |
| 2.3.2 | TMR効果とスピン分極率 |
| 2.3.3 | Al-Oトンネル障壁MTJ素子の性能限界と打開策 |
| 2.3.4 | Al-Oトンネル障壁MTJ素子の工業応用 |
| 2.4 | 酸化マグネシウム(MgO)トンネル障壁の巨大TMR効果 |
| 2.4.1 | コヒーレント・トンネルの理論予測 |
| 2.4.2 | 結晶MgO(001)障壁の作製と巨大TMR効果の実現 |
| 2.4.3 | 量産プロセスに適合したCoFeB/MgO/CoFeB構造のMTJ素子 |
| 2.4.4 | MgO(001)トンネル障壁MTJ素子の工業応用 |
| 3 | 磁気抵抗効果型再生ヘッド素子の技術課題と対策(佐橋政司) |
| 3.1 | はじめに |
| 3.2 | 磁気抵抗効果型再生ヘッドの構造とスピンバルブ効果 |
| 3.3 | 磁気抵抗効果型再生ヘッドの技術課題 |
| 3.4 | 技術課題の克服に向けて |
| 3.4.1 | 磁気抵抗効果の原理 |
| (1) | CPPGMRとCCP-CPPGMRについて |
| (2) | DWMRとBMRについて |
| 3.4.2 | 再生ヘッドの素子構造について |
| 3.5 | おわりに |
|
| 第5章 | 垂直磁気記録媒体技術 |
| 1 | 垂直磁気記録材料総論(大内一弘) |
| 1.1 | はじめに |
| 1.2 | 垂直記録方式と高密度化 |
| 1.2.1 | 垂直記録の特徴と記録媒体 |
| 1.2.2 | 記録ヘッドと媒体の構成 |
| 1.3 | 垂直記録媒体の要件 |
| 1.3.1 | 微粒子性 |
| 1.3.2 | 垂直磁気異方性 |
| 1.3.3 | 粒子の磁気的孤立性 |
| 1.3.4 | M-H曲線 |
| 1.3.5 | マクロな均質性 |
| 1.4 | 垂直記録媒体の種類と製法 |
| 1.4.1 | 添加元素種の選択 |
| 1.4.2 | 高磁気異方性記録材料 |
| 1.4.3 | Fe-Pt垂直記録媒体 |
| 1.4.4 | Co/Pd、Co/Pt人工格子型多層膜 |
| 1.4.5 | そのほかの材料 |
| 1.5 | 垂直記録媒体の今後の課題 |
| 1.5.1 | 大きな飽和磁化材料の重要性 |
| 1.5.2 | メタル・酸化物混合系薄膜微粒子材料 |
| 1.5.3 | 次世代型高密度媒体 |
| 1.5.4 | 熱補助記録(HAMR)とその媒体 |
| 1.6 | むすび |
| 2 | Co-Pt-Cr-SiO2系記録層材料(島津武仁) |
| 2.1 | CoCr系媒体からCoPtCr-SiO2系媒体へ |
| 2.2 | CoPtCr-SiO2媒体の磁気異方性 |
| 2.3 | SiO2の添加と構造および磁気特性 |
| 2.4 | グラニュラ媒体の性能向上 |
| 3 | Co-Pt-TiO2系記録層材料(有明順、大内一弘) |
| 3.1 | はじめに |
| 3.2 | Co-Pt薄膜 |
| 3.2.1 | これまでのCo-Pt系高異方性薄膜の研究 |
| 3.2.2 | Co-Pt高異方性薄膜の諸特性 |
| 3.3 | CoPt-TiO2薄膜 |
| 3.3.1 | 添加酸化物の選択指標 |
| 3.3.2 | Co-Pt-oxide膜の磁気特性、薄膜微細構造 |
| 3.3.3 | Co-Pt-oxide膜中の化学結合状態 |
| 3.3.4 | Co-Pt-oxide膜厚方向の化学結合状態 |
| 3.4 | まとめ |
| 4 | 複合記録層材料(園部義明) |
| 4.1 | はじめに |
| 4.2 | CGC媒体 |
| 4.2.1 | CGC媒体(積層)構造 |
| 4.2.2 | CGC構造を有する具体的な媒体 |
| 4.2.3 | 磁気特性の制御 |
| 4.2.4 | 微細構造 |
| 4.2.5 | 記録再生特性と熱安定性 |
| 4.2.6 | CGC媒体に関する解析 |
| (1) | スイッチング磁界分布 |
| (2) | 熱安定性の解析 |
| (3) | MFMによる解析 |
| (4) | 磁化機構解析 |
| 4.3 | ECC媒体 |
| 4.4 | 今後の展望 |
| 4.5 | まとめ |
| 5 | Fe-Pt系記録層材料(鈴木淑男) |
| 5.1 | はじめに |
| 5.2 | FePt垂直磁気異方性薄膜の作製 |
| 5.2.1 | C軸結晶配向技術 |
| 5.2.2 | 低温規則化 |
| 5.2.3 | 膜微細構造形成 |
| (1) | 磁壁ピンニング型 |
| (2) | ナノグラニュラー型 |
| 5.3 | FePt垂直記録媒体の現状とピンニング型媒体の可能性 |
| 5.4 | むすび |
| 6 | 記録層磁化反転評価技術(石尾俊二) |
| 6.1 | はじめに |
| 6.2 | 磁気力顕微鏡 |
| 6.3 | 反転磁場マッピング |
| 6.4 | 反転磁場マップとビット境界や媒体ノイズ画像の重ね合わせ |
| 6.5 | 反転磁化過程ならびに活性化体積 |
| 6.6 | まとめ |
| 7 | 軟磁性下地層材料(棚橋究、細江譲、荒井礼子) |
| 8 | 中間非磁性層の役割と課題(二本正昭) |
| 8.1 | 結晶配向性 |
| 8.2 | 結晶粒径 |
| 8.3 | 結晶欠陥 |
| 8.4 | 結晶粒界組成、結晶粒内組成 |
| 8.5 | 表面平坦性 |
| 8.6 | 軟磁性裏打ち層と記録磁性層の磁気的相互作用 |
| 8.7 | Co合金系記録磁性膜以外の磁性膜に対する中間非磁性層材料 |
| 8.8 | 中間非磁性層の今後の課題 |
|
| 第6章 | 垂直磁気記録用信号処理技術(大沢寿、岡本好弘、仲村泰明) |
| 1 | はじめに |
| 2 | 垂直磁気記録再生系 |
| 3 | PRML方式の基礎 |
| 4 | 雑音予測型PRML方式 |
| 5 | PRML方式の性能比較 |
| 6 | ポストプロセッサ |
| 7 | 繰り返し復号 |
| 8 | 低域補償 |
| 9 | おわりに |
|
| 第7章 | 情報ストレージへの応用 |
| 1 | HDDへの応用(高野公史) |
| 1.1 | はじめに |
| 1.2 | HDDの歴史 |
| 1.3 | HDDの主要技術 |
| 1.4 | 製品化に向けた基礎検討 |
| 1.5 | 実用化に向けた技術開発 |
| 1.6 | 今後の展望 |
| 2 | 超高精細映像記録への応用(沼澤潤二) |
| 2.1 | 映像記録の歴史 |
| 2.2 | ディジタル映像信号の性質 |
| 2.3 | 超高精細ディジタル映像信号規格とストレージ |
| 2.4 | 超高精細ディジタル映像信号用ストレージの要件 |
|
| 第8章 | 次世代高密度化技術 |
| 1 | ディスクリートトラックメディア(田上勝通) |
| 1.1 | 高密度での課題 |
| 1.2 | ディスクリートトラックメディア(DTM)の構造 |
| 1.3 | DTMの垂直磁気異方性 |
| 1.4 | DTMの作製法 |
| 1.5 | 磁気ヘッドの浮上特性 |
| 1.6 | サーボトラックフォロイング |
| 1.7 | DTMの記録再生特性 |
| 1.8 | 今後の展開 |
| 2 | パターンドメディア |
| 2.1 | ビットパターンド磁気記録メディアの設計(本多直樹) |
| 2.1.1 | はじめに |
| 2.1.2 | ビットパターンドメディアの熱磁気設計 |
| 2.1.3 | メディアのシミュレーションモデル |
| 2.1.4 | 記録シミュレーション |
| 2.1.5 | シフトマージンの決定要因 |
| (1) | シミュレーションモデル |
| (2) | 長手方向シフトマージン |
| (3) | トラック幅方向シフトマージン |
| 2.1.6 | 面記録密度2Tbit/in²記録への指針 |
| (1) | 磁性ドット形状と残留磁化曲線 |
| (2) | 記録シミュレーション |
| 2.2 | 製造方法(喜々津哲) |
| 2.2.1 | はじめに |
| 2.2.2 | パターンドメディアの加工形態 |
| 2.2.3 | マスク形成方法 |
| 2.2.4 | パターン描画方法 |
| 2.2.5 | エッチング方法 |
| 2.2.6 | 埋め込み平坦化 |
| 2.2.7 | パターンドメディアの製造法イメージ |
| 3 | 熱補助記録方式 |
| 3.1 | ワイドビーム加熱(松本幸治) |
| 3.1.1 | まえがき |
| 3.1.2 | 熱アシスト記録方式による面記録密度 |
| (1) | 面記録密度と磁気特性 |
| (2) | 磁気ドミナントによる面記録密度 |
| (3) | 光ドミナントによる記録密度 |
| 3.1.3 | 原理実験 |
| (1) | 記録媒体 |
| (2) | 記録再生装置 |
| (3) | オーバーライト特性 |
| (4) | 書き込み時の熱の効果 |
| (5) | 信号対雑音比 |
| 3.1.4 | まとめ |
| 3.2 | 狭域加熱(中川活二) |
| 3.2.1 | Solid Immersion Lens,Solid Immersion Mirror |
| 3.2.2 | ナノサイズ開口 |
| 3.2.3 | 表面プラズモン利用の近接場光 |
| 3.2.4 | 導波路タイプ |
| 3.2.5 | 磁場発生型プラズモンアンテナ |
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