| 執筆者一覧（執筆順） |
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| 上條榮治 | 龍谷大学名誉教授；龍谷エクステンションセンター(REC) フェロー |
| 藤原学 | 龍谷大学 理工学部 物質化学科 教授 |
| 古原忠 | 東北大学 金属材料研究所 高純度金属材料学研究部門 教授 |
| 秋庭義明 | 名古屋大学 大学院工学研究科 機械理工学専攻 准教授 |
| 藤田雅之 | (財)レーザー技術総合研究所 主任研究員 |
| 藤原浩司 | トーヨーエイテック(株) 表面処理事業部 研究開発部 部長 |
| 三浦健一 | 大阪府立産業技術総合研究所 機械金属部 金属表面処理系 主任研究員 |
| 西村芳実 | (株)栗田製作所 技術開発室 特別技術顧問 |
| 吉川雅康 | 日本カロライズ工業(株) 開発企画部 取締役部長 |
| 山口哲央 | (財)ファインセラミックスセンター 材料技術研究所 主任研究員 |
| 小林明 | 大阪大学 接合科学研究所 准教授 |
| 藤原裕 | 大阪市立工業研究所 電子材料担当 研究主幹 |
| 小林靖之 | 大阪市立工業研究所 電子材料担当 研究員 |
| 明渡純 | (独)産業技術総合研究所 先進製造プロセス研究部門 集積加工研究グループ グループ長 |
| 森正和 | 龍谷大学 理工学部 機械システム工学科 助教 |
| 伊藤義康 | (株)東芝 電力・社会システム技術開発センター 首席技監 |
| 須山章子 | (株)東芝 電力・社会システム技術開発センター 主査 |
| 井上博之 | 大阪府立大学 大学院工学研究科 マテリアル工学分野 講師 |
| 佐々木信也 | 東京理科大学 工学部 機械工学科 教授 |
| 平山朋子 | 同志社大学 工学部 専任講師 |
| 藤野隆由 | 近畿大学 理工学部 応用化学科 講師 |
| 鈴木義彦 | (独)科学技術振興機構 技術参事；JSTイノベーションプラザ大阪 科学技術コーディネーター |
| 中東孝浩 | 日本アイ・ティ・エフ(株) 技術部 部長補佐 |
| 内山潔 | 奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科 准教授 |
| 王谷洋平 | 諏訪東京理科大学 システム工学部 電子システム工学科 助教 |
| 塩嵜忠 | 奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科 教授 |
| 広瀬義幸 | (株)アライドマテリアル ニューセラミック開発室 主席 |
| 石﨑幸三 | 長岡技術科学大学 機械系 教授 |
| 松丸幸司 | 長岡技術科学大学 機械系 助教 |
| 片岡泰弘 | 愛知県産業技術研究所 常滑窯業技術センター |
| 濱口裕昭 | 愛知県産業技術研究所 常滑窯業技術センター |
| 中村直樹 | トヨタ自動車(株) 東富士研究所 第3材料技術部 主幹 |
| 竹内雅人 | 大阪府立大学 大学院工学研究科 物質系専攻 助教 |
| 安保正一 | 大阪府立大学 大学院工学研究科 物質系専攻 教授 |
| 二俣正美 | 北見工業大学 名誉教授 |
| 鮎田耕一 | 北見工業大学 土木開発工学科 教授 |
| 松岡信一 | 富山県立大学 工学部 機械システム工学科 教授 |
| 北岡諭 | (財)ファインセラミックスセンター 材料技術研究所 主席研究員 |
| 和田匡史 | (財)ファインセラミックスセンター 材料技術研究所 副主任研究員 |
| 長伸朗 | 中部電力(株) 技術開発本部 エネルギー応用研究所 都市・産業技術グループ 研究副主査 |
| 稲垣秀樹 | 中部電力(株) 技術開発本部 エネルギー応用研究所 都市・産業技術グループ 研究主査 |
| 横川善之 | 大阪市立大学 大学院工学研究科 教授 |
| 南内嗣 | 金沢工業大学 光電相互変換デバイスシステム研究開発センター 教授 |
| 藤沢章 | 日本板硝子(株) BP研究開発部 グループリーダー |
| 中山弘 | (有)マテリアルデザインファクトリー 取締役・CTO；大阪市立大学大学院 工学研究科 教授 |
| 神谷和孝 | 日本板硝子(株) BP事業本部 BP研究開発部 グループリーダー |
| 橋本貴治 | メルテックス(株) 研究部第1研究室 主任 |
| 青井芳史 | 龍谷大学 理工学部 物質化学科 講師 |
| 三谷一石 | 日本板硝子(株) BP研究開発部 研究開発グループ グループリーダー |
| 小駒益弘 | 上智大学 理工学部 化学科 教授 |
| 渡辺歴 | (独)産業技術総合研究所 光技術研究部門 研究員 |
| 玉木隆幸 | 奈良工業高等専門学校 電子制御工学科 助教 |
| 伊東一良 | 大阪大学大学院 工学研究科 教授 |
| 鄭容宝 | (財)応用科学研究所 研究部 第2研究室 研究室長 |
| 下里吉計 | 中外炉工業(株) 熱処理事業部 シニアアドバイザー |
| 舟木義行 | 日本電子工業(株) 技術部 取締役 技術部長 |
| 鈴木康正 | (株)アルバック 先端機器事業部 技術部 部長 |
| 佐々木光正 | スルザーメテコジャパン(株) 技術開発部 マネージャー |
| 構成および内容 |
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| 【序編】 |
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| 総説 | 材料の表面処理・改質技術の現状と課題（上條榮治） |
| 1 | はじめに |
| 2 | 表面処理・改質技術の分類 |
| 3 | 熱処理による金属の表面処理技術 |
| 4 | 熱処理技術の課題 |
| 5 | 表面被覆による表面処理・改質技術 |
| 6 | 表面被覆処理技術の課題 |
| 6.1 | 低温成膜技術 |
| 6.2 | 密着性向上に関する技術 |
| 6.3 | 大面積成膜に関する技術 |
| 6.4 | 高速成膜に関する技術 |
| 6.5 | プロセスのパルス化に関する技術 |
| 6.6 | その他 |
| 7 | ガラス・セラミックスの表面改質技術 |
| 8 | まとめ |
|
| 概説 | 表面構造・組成の解析法（藤原学） |
| 1 | 機器分析から見た表面 |
| 2 | 機器分析法の一般原理 |
| 3 | いろいろな表面分析法 |
| 3.1 | X線光電子分光法（XPS） |
| 3.2 | オージェ電子分光法（AES） |
| 3.3 | イオン散乱分光法（ISS） |
| 3.4 | 二次イオン質量分析法（SIMS） |
| 3.5 | X線吸収分光法（XAFS） |
| 3.6 | 電子線マイクロアナリシス（電子プローブ微小部分析法）（EPMA） |
| 3.7 | 粒子（イオン）励起X線分光法（PIXE） |
| 3.8 | 全反射蛍光X線分析（TRXRF:Total Reflection X-ray Fluorescence） |
| 3.9 | 表面観察法 |
| 3.10 | 電子エネルギー損失分光法（EELS） |
| 4 | 表面分析法の性能比較 |
| 5 | これからの表面分析法 |
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| 【第1編 金属編】 |
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| 第1章 | 金属の熱処理技術（古原忠） |
| 1 | 鉄鋼の熱処理 |
| 1.1 | バルクの熱処理 |
| 1.2 | 表面熱処理の種類 |
| 2 | 表面焼入れ |
| 2.1 | 高周波焼入れ |
| 2.2 | 炎焼入れ |
| 2.3 | 電解焼入れ、レーザー焼入れ、電子ビーム焼入れ |
| 3 | 浸炭 |
| 3.1 | 固体浸炭と液体浸炭 |
| 3.2 | ガス浸炭 |
| 3.3 | 真空浸炭と真空イオン浸炭 |
| 3.4 | 浸炭窒化 |
| 3.5 | 浸炭用鋼の熱処理 |
| 4 | 窒化 |
| 4.1 | ガス窒化 |
| 4.2 | 液体窒化（塩浴窒化） |
| 4.3 | プラズマ窒化（イオン窒化） |
| 4.4 | その他の窒化処理 |
| 5 | その他の表面熱処理 |
| 5.1 | 炭化物被覆法 |
| 5.2 | ほう化処理およびその他の拡散処理 |
| 5.3 | 水蒸気処理と浸硫処理 |
|
| 第2章 | 表面加工技術 |
| 1 | ショットピーニング（秋庭義明） |
| 1.1 | ショットピーニングによる高強度化 |
| 1.2 | ショットピーニング処理 |
| 1.3 | 残留応力 |
| 1.4 | 各種ピーニング法 |
| 2 | フェムト秒レーザー加工（藤田雅之） |
| 2.1 | はじめに |
| 2.2 | フェムト秒パルスとは |
| 2.3 | 切れ味の良いフェムト秒加工 |
| 2.4 | 加工レート |
| 2.5 | ナノ周期構造形成 |
| 2.6 | おわりに |
|
| 第3章 | 表面被覆改質技術 |
| 1 | CVD技術の紹介と今後の見通し（藤原浩司） |
| 1.1 | はじめに |
| 1.2 | コーティング方法 |
| 1.3 | CVD法とPVD法の特徴 |
| 1.4 | CVDの主な膜種と特徴 |
| 1.5 | 装置 |
| 1.6 | TiC処理の工程 |
| 1.7 | 新たな技術（タフコート） |
| 1.8 | まとめ |
| 2 | PVD法（三浦健一） |
| 2.1 | はじめに |
| 2.2 | イオンプレーティング法の種類と基本原理 |
| 2.3 | 膜質制御の重要性 |
| 2.4 | 耐摩耗性＋潤滑性向上の時代へ |
| 2.4.1 | 微細孔を有する硬質化合物皮膜の形成プロセス |
| 2.4.2 | 塑性加工金型への適用事例 |
| 2.5 | おわりに |
| 3 | イオン注入応用技術（西村芳実） |
| 3.1 | はじめに |
| 3.2 | プラズマイオン注入法 |
| 3.3 | RF・高電圧パルス重畳法 |
| 3.4 | イオン注入を併用したDLC膜 |
| 3.5 | まとめ |
| 4 | 拡散被覆法（吉川雅康） |
| 4.1 | カロライズ技術 |
| 4.2 | メカニズム |
| 4.3 | 化学反応 |
| 4.4 | 各種拡散被覆法 |
| 5 | 遮熱コーティング技術（山口哲央） |
| 5.1 | はじめに |
| 5.2 | TBCコーティングプロセス |
| 5.3 | EB-PVDによるYSZコーティングとナノ構造制御 |
| 5.4 | 高性能TBCトップコート材料開発 |
| 5.5 | EB-PVDによる遮熱コーティングの実用化への展望 |
| 6 | ガストンネル型プラズマ溶射技術（小林明） |
| 6.1 | はじめに |
| 6.2 | プラズマ溶射と複合機能材料 |
| 6.3 | ガストンネル型プラズマ溶射 |
| 6.3.1 | ガストンネル型プラズマ溶射の機構 |
| 6.3.2 | ガストンネル型プラズマ溶射皮膜の特徴 |
| 6.3.3 | プラズマ溶射による複合機能材料の例 |
| 6.3.4 | プラズマ溶射による複合機能ジルコニア皮膜 |
| 6.4 | ガストンネル型プラズマ反応溶射 |
| 6.5 | おわりに |
| 7 | 鉛フリーめっき技術―鉛フリーはんだめっきを中心に―（藤原裕） |
| 7.1 | はじめに |
| 7.2 | 鉛フリーはんだめっきの考え方 |
| 7.2.1 | 鉛フリーはんだめっきの分類 |
| 7.2.2 | 鉛フリーはんだめっきへの要求特性 |
| 7.3 | スズめっき |
| 7.4 | スズ-ビスマス合金めっきとスズ-銅合金めっき |
| 7.5 | スズ-銀合金めっき |
| 7.6 | スズ／銀ナノ粒子複合めっき |
| 7.6.1 | めっき皮膜の組成と構造 |
| 7.6.2 | めっき皮膜のはんだ濡れ性 |
| 7.6.3 | ウィスカ |
| 7.7 | おわりに |
| 8 | 6価クロムフリー表面処理技術―クロメート処理の代替化成処理―（藤原裕、小林靖之） |
| 8.1 | クロメート処理と6価クロムの使用規制 |
| 8.2 | クロメート処理の概要 |
| 8.3 | 3価クロム化成処理 |
| 8.3.1 | クロメート処理と3価クロム化成処理 |
| 8.3.2 | 防食能と耐熱性 |
| 8.3.3 | クロメート代替化成処理に要求される特性への適合 |
| 8.4 | クロムフリー化成処理 |
| 8.5 | セリウムによる化成処理 |
| 8.5.1 | 皮膜形成反応 |
| 8.5.2 | 皮膜の防食能に及ぼす硫酸塩添加の影響 |
| 8.5.3 | 撥水性の付与による防食能の向上 |
| 9 | エアロゾルデポジション（AD）技術（明渡純、森正和） |
| 9.1 | はじめに |
| 9.2 | エアロゾルデポジション法 |
| 9.3 | 常温衝撃固化現象 |
| 9.4 | 膜微細組織 |
| 9.5 | プラスチック基板上へ膜形成 |
| 9.6 | 金属材料の常温衝撃固化と積層構造の形成 |
| 9.7 | 成膜条件の特徴 |
| 9.7.1 | 基板加熱の影響 |
| 9.7.2 | 原料粉末の影響 |
| 9.8 | 成膜メカニズムの考察 |
| 9.9 | 高硬度、高絶縁アルミナ膜と実用化への試み |
| 9.10 | AD法による電子デバイスの高機能化 |
| 9.10.1 | 圧電アクチュエータ・デバイスへの応用 |
| 9.10.2 | 高周波デバイスへの応用 |
| 9.10.3 | 光集積化デバイスへの応用 |
| 10 | コールドスプレー技術（伊藤義康、須山章子） |
|
| 第4章 | 応用技術・特性 |
| 1 | 腐食と防食（井上博之） |
| 1.1 | 表面処理・改質による素材の防食 |
| 1.2 | 犠牲防食効果による素地の防食 |
| 1.3 | 多層化による高耐食性の実現 |
| 1.4 | むすび |
| 2 | 摺動と摩耗（耐摩耗性）（佐々木信也） |
| 2.1 | はじめに |
| 2.2 | 表面とトライボロジー |
| 2.3 | トライボロジーの基礎 |
| 2.3.1 | 摩擦 |
| 2.3.2 | 摩耗 |
| 2.3.3 | 潤滑 |
| 2.4 | 耐摩耗性向上を目的とする表面改質 |
| 2.4.1 | 高硬度 |
| 2.4.2 | 平滑性と低攻撃性 |
| 2.4.3 | テキスチャリング |
| 2.4.4 | 固体潤滑性 |
| 2.4.5 | 化学的安定性（耐腐性） |
| 2.5 | おわりに |
| 3 | 潤滑における表面改質技術の効果（平山朋子） |
| 3.1 | ストライベック曲線 |
| 3.2 | 境界潤滑条件下しゅう動に及ぼす表面処理の効果 |
| 3.3 | 流体潤滑条件下しゅう動に及ぼす表面処理の効果 |
| 4 | アルミニウム上へのTiO2光触媒粒子の製膜技術（藤野隆由） |
| 4.1 | はじめに |
| 4.2 | 化成処理によるTiO2製膜法 |
| 4.3 | TiO2固定膜の構造解析 |
| 4.4 | 酸化チタン膜の製膜機構 |
| 4.5 | TiO2膜の光触媒能評価 |
| 4.6 | アノード酸化による製膜法と三層固定制御 |
| 4.6.1 | アノード酸化と金属の二次電析法 |
| 4.6.2 | 酸化チタンの固定化法（SOL-GEL法） |
| 4.6.3 | 膜厚の光触媒活性に及ぼす影響 |
| 4.6.4 | 金属担持量 |
| 4.6.5 | 表面粗さとMG吸着量の相関関係 |
| 4.7 | 光触媒活性 |
| 4.7.1 | MG吸光度の経時変化 |
| 4.7.2 | 白金電析量と光触媒活性効果 |
| 4.7.3 | すず電析量と光触媒活性の相関関係 |
| 4.8 | TEM組織観察 |
| 4.9 | おわりに |
| 5 | 表面反応を利用したセンサ（鈴木義彦） |
| 5.1 | 熱式センサ |
| 5.2 | ガスセンサ |
| 5.3 | 表面プラズモンセンサ |
| 5.3.1 | 表面プラズモンの電界増強効果によるセンサ |
| 5.3.2 | 誘電率敏感特性を利用したセンサ |
| 5.4 | ISFETセンサ |
| 5.5 | 水晶振動子センサ |
| 5.6 | 表面弾性波センサ |
|
| 【第2編 セラミックス編】 |
|
| 第1章 | 表面処理技術 |
| 1 | DLCコーティング（中東孝浩） |
| 1.1 | はじめに |
| 1.2 | 有害化学物質に関連する主な規制とDLC膜 |
| 1.3 | DLCの特徴・製法 |
| 1.4 | DLCの摩擦・磨耗特性 |
| 1.5 | DLCの用途開発 |
| 1.6 | 今後注目を集める高分子材料へのDLCコーティングと更なる高機能化 |
| 1.7 | まとめ |
| 2 | 大気圧MOCVDによる酸化物薄膜作製プロセス（内山潔、王谷洋平、塩嵜忠） |
| 2.1 | はじめに |
| 2.2 | 香水用アトマイザーを用いた大気圧MOCVD |
| 2.2.1 | 原料探索 |
| 2.2.2 | 段差被覆性 |
| 2.2.3 | デュアルスプレー法によるPLZT成膜 |
| 2.3 | 新規装置の試作 |
| 2.4 | まとめ |
| 3 | メタライジング（セラミックス回路基板）（広瀬義幸） |
| 3.1 | 厚膜法 |
| 3.1.1 | コファイア法 |
| 3.1.2 | ポストファイア法 |
| 3.2 | 薄膜法 |
| 3.2.1 | 薄膜形成方法 |
| 3.2.2 | 回路部分の薄膜構造 |
| 3.2.3 | 回路形成方法 |
| 4 | レーザードレッシングによるセラミックス用研削砥石の性能向上（石﨑幸三、松丸幸司） |
| 4.1 | 研究の背景と目的 |
| 4.2 | 実験方法 |
| 4.3 | 結果および考察 |
| 4.4 | 結言 |
| 5 | ショットコーティングによるセラミックスの表面改質（伊藤義康、須山章子） |
| 6 | ショットコーティング法によるセラミックスコーティング技術（片岡泰弘、濱口裕昭） |
| 6.1 | はじめに |
| 6.2 | ショットコーティング装置の原理 |
| 6.3 | ショットコーティング法の特徴 |
| 6.4 | コーティング事例1（ハイドロキシアパタイト粉末の噴射による生体親和性の付与） |
| 6.5 | コーティング事例2（光触媒担持金属及びフッ素樹脂粉末の噴射による光触媒性の付与） |
| 7 | ショットピーニングによるセラミックスの表面強化（秋庭義明） |
| 7.1 | 表面性状と圧縮残留応力 |
| 7.2 | ショットピーニングによる強化 |
|
| 第2章 | 表面処理応用技術 |
| 1 | イオンビームによる窒化ケイ素セラミックスの表面改質とナノトライボロジー（中村直樹） |
| 2 | ゼオライトの表面処理―ゼオライト骨格に固定化した高分散四配位酸化チタン光触媒と酸化チタン／ゼオライト複合系光触媒の特徴（竹内雅人、安保正一） |
| 2.1 | はじめに |
| 2.2 | メソポーラスシリカの骨格に組み込んだ四配位酸化チタン種の光触媒特性 |
| 2.3 | TiO2/ZSM-5複合系光触媒によるアセトアルデヒドの酸化分解除去 |
| 2.4 | まとめ |
| 3 | 溶射法によるコンクリートの表面改質（二俣正美、鮎田耕一） |
| 3.1 | 早期劣化と水中生物の付着 |
| 3.2 | 溶射法の特徴とコンクリートへの皮膜形成 |
| 3.3 | 凍害による劣化と防止対策 |
| 3.3.1 | 凍害による劣化 |
| 3.3.2 | 凍害防止と溶射皮膜の効果 |
| 3.4 | 溶射皮膜による水中生物の付着防止 |
| 3.4.1 | 観察方法 |
| 3.4.2 | 水中生物の付着状況 |
| 3.5 | 課題と展望 |
| 4 | セラミックスと金属の超音波接合（松岡信一） |
| 4.1 | はじめに |
| 4.2 | セラミックスと金属の直接接合 |
| 4.2.1 | 最適な接合条件と接合可能領域 |
| 4.2.2 | 接合強度 |
| 4.2.3 | 接合部の性状 |
| 4.2.4 | 接合面粗さの影響 |
| 4.3 | インサート材を用いた接合 |
| 4.3.1 | 最適な接合条件と接合可能領域 |
| 4.3.2 | 接合部の性状 |
| 4.4 | 接合界面に発生する温度 |
| 4.5 | 接合のメカニズム |
| 4.6 | あとがき |
| 5 | 界面制御によるガラス被覆カーボンの耐水蒸気酸化性と耐熱衝撃性の向上（北岡諭、和田匡史、長伸朗、稲垣秀樹） |
| 5.1 | 緒言 |
| 5.2 | 熱力学平衡計算 |
| 5.3 | 実験方法 |
| 5.4 | 結果および考察 |
| 5.5 | 結論 |
| 6 | 生体材料の表面処理技術（上條榮治） |
| 6.1 | 生体医療材料に要求される性質 |
| 6.2 | 人工生体材料の現状 |
| 6.3 | 生体材料の表面処理・改質 |
| 6.4 | 再生医療用の足場材料 |
| 7 | ナノ周期構造高次構造セラミックス応用（横川善之） |
| 7.1 | ナノ材料 |
| 7.2 | 高次構造セラミックス |
| 7.3 | 水環境浄化への応用 |
| 7.4 | まとめ |
|
| 【第3編 ガラス編】 |
|
| 第1章 | ガラスへのコーティング技術と応用 |
| 1 | 真空アークプラズマ蒸着法（南内嗣） |
| 1.1 | はじめに |
| 1.2 | VAPE法の原理と特徴 |
| 1.3 | 各種酸化物薄膜の作製 |
| 1.3.1 | 酸化物透明導電膜の作製 |
| 1.3.2 | その他の酸化物薄膜 |
| 1.4 | まとめ |
| 2 | オンラインCVD法（藤沢章） |
| 2.1 | はじめに |
| 2.2 | オンラインCVD法 |
| 2.3 | CVD法によるSnO2膜 |
| 2.4 | Low-Eガラス |
| 2.5 | 太陽電池基板 |
| 2.6 | おわりに |
| 3 | 有機触媒CVD法―有機・無機ハイブリッド薄膜の低温成膜―（中山弘） |
| 3.1 | はじめに―低温成膜の物理と化学― |
| 3.2 | 有機触媒CVD法による有機・無機ハイブリッド材料薄膜形成 |
| 3.3 | 有機触媒CVDの原理―気相空間で物質の骨格をつくる― |
| 3.4 | 有機触媒CVD装置―プラズマアシスト触媒CVD装置― |
| 3.5 | 有機触媒CVD法の応用例 |
| 3.5.1 | SiOC系低誘電率絶縁材料 |
| 3.5.2 | SiNC系デバイスパシベーション材料 |
| 4 | ゾルゲル法（神谷和孝） |
| 4.1 | はじめに |
| 4.2 | ゾルゲル反応 |
| 4.3 | 撥水コーティング |
| 4.4 | 防汚ガラス |
| 4.5 | おわりに |
| 5 | ガラス上への無電解めっき法（橋本貴治） |
| 5.1 | 緒言 |
| 5.2 | 無電解めっき工程 |
| 5.2.1 | 脱脂 |
| 5.2.2 | エッチング |
| 5.2.3 | コンディショナー |
| 5.2.4 | 触媒付与 |
| 5.2.5 | 活性化処理 |
| 5.2.6 | 無電解ニッケルめっき |
| 5.2.7 | 無電解金めっき |
| 5.2.8 | 熱処理および被膜の密着 |
| 5.3 | 結言 |
| 6 | 液相析出法（青井芳史） |
|
| 第2章 | ガラスの表面処理技術 |
| 1 | 表面清浄化技術（三谷一石） |
| 1.1 | はじめに |
| 1.2 | ガラスの変質層除去 |
| 1.3 | 湿式洗浄 |
| 1.3.1 | 洗浄対象 |
| 1.3.2 | ガラス洗浄の設計における留意事項 |
| 1.3.3 | 液中での汚れ粒子の除去性 |
| 1.4 | ガラスへのダメージを考慮した洗浄 |
| 1.5 | おわりに |
| 2 | 大気圧プラズマ処理（小駒益弘） |
| 2.1 | はじめに |
| 2.2 | 固体表面処理 |
| 2.2.1 | 高圧ポリエチレン表面のプラズマ酸化 |
| 2.2.2 | ガラスなどの固体表面のプラズマ酸化処理の実例 |
| 2.3 | まとめ |
| 3 | フェムト秒レーザー表面・内部改質（渡辺歴、玉木隆幸、伊東一良） |
| 3.1 | はじめに |
| 3.2 | フェムト秒レーザーパルスによるガラス表面構造の改質 |
| 3.2.1 | アブレーション |
| 3.2.2 | ガラス表面への回析格子の作製 |
| 3.3 | フェムト秒レーザーパルスによるガラス内部への構造の改質 |
| 3.3.1 | ガラス内部改質種類 |
| 3.3.2 | 応用 |
| 3.4 | 今後の展望とまとめ |
| 4 | 超撥水の機能発現メカニズムと超撥水有機薄膜（鄭容宝） |
| 4.1 | はじめに |
| 4.2 | 撥水性に及ぼす諸因子 |
| 4.2.1 | 表面の化学的性質と濡れの関係 |
| 4.2.2 | 表面の物理的性質（表面粗度）と濡れの関係 |
| 4.2.3 | 超撥水の機能発現 |
| 4.3 | ガラス表面の超撥水処理 |
| 4.3.1 | FAS（heptadeca-fluoro-1,1,2,2,-tetrahydrodecyltriehoxysilane）を用いる透明膜 |
| 4.3.2 | 膜特性 |
| 4.4 | 二種のシランカップリング反応を用いるハイブリッド膜の生成 |
| 4.4.1 | DDS（dimethyldiethoxysilalne（C6H16O2Si））とFASによるハイブリッド皮膜の生成 |
| 4.4.2 | 皮膜特性 |
|
| 【第4編 表面処理・改質装置編】 |
|
| 第1章 | 熱処理装置（下里吉計） |
| 1 | 直火式熱処理炉 |
| 2 | 雰囲気熱処理炉 |
| 3 | 真空炉 |
| 4 | 誘導加熱焼入れ装置 |
|
| 第2章 | 直流グロー放電を利用する表面改質装置（舟木義行） |
| 1 | はじめに |
| 2 | 直流グロー放電を利用する表面改質法 |
| 3 | 直流グロー放電装置 |
| 3.1 | 処理槽（真空容器） |
| 3.1.1 | 処理槽 |
| 3.1.2 | マイナス電極 |
| 3.1.3 | 観察窓 |
| 3.1.4 | 真空計 |
| 3.1.5 | 温度測定 |
| 3.1.6 | ガス冷却装置 |
| 3.2 | 真空排気装置 |
| 3.3 | ガス供給装置 |
| 3.4 | プラズマ電源 |
| 3.5 | 運転制御盤 |
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| 第3章 | 表面被覆装置―スパッタリング法と小型スパッタリング装置―（鈴木康正） |
| 1 | はじめに |
| 2 | スパッタリング法が適用される膜の種類 |
| 3 | スパッタリング装置 |
| 4 | jsputterの概要・構成・特徴 |
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| 第4章 | 溶射装置（佐々木光正） |
| 1 | はじめに |
| 2 | 溶射皮膜の特徴 |
| 3 | 溶射装置 |
| 3.1 | プラズマ溶射装置 |
| 3.1.1 | プラズマ溶射装置の構成 |
| 3.1.2 | プラズマ溶射ガンの種類 |
| 3.1.3 | その他のプラズマ溶射装置 |
| 3.2 | ガスフレーム溶射装置 |
| 3.2.1 | 高速ガスフレーム溶射（HVOF）装置 |
| 3.2.2 | 汎用のガスフレーム溶射装置 |
| 3.3 | アーク式溶射装置 |
| 3.4 | その他の溶射装置 |
| 4 | 溶射材料および適用例 |
| 5 | まとめ |
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