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<セミナー詳細>

セミナーコード:20110202   このセミナーの受付は終了しています

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★本セミナーでは、オゾンの特性(OHラジカルの特性を含め)・水処理への適用から、浄水・下水・排水・汚泥処理への応用と
 水リサイクル技術の展開、又、オゾン発生器(オゾナイザ)の開発動向、海外での応用動向などに至るまで、斯界の第一線で
 ご活躍中の安永博士に詳しく解説頂きます。

オゾンによる水処理技術およびその応用と展開
●講 師 三菱電機(株) 先端技術総合研究所
環境システム技術部 水質制御グループ
主席研究員
工学博士
安永 望 氏
●日 時 2011年 2月 2日(水) 10:30〜16:30
●会 場 東京・新お茶の水・総評会館・4F会議室  》》 会場地図はこちら 《《
※急ぎのご連絡は(株)技術情報センター(TEL06-6358-0141)まで!!
●受講料 49,980円(1名につき)
(同時複数人数お申込みの場合1名につき44,730円)
※テキスト代、昼食代、お茶代、消費税を含む
●主 催 (株)技術情報センター

●セミナープログラム●
�T.オゾンの特性と水処理の基礎

 1.オゾンの特性
  (1)オゾンの酸化力
  (2)オゾンの自己分解
 2.オゾンの水処理への適用
  (1)オゾンの反応性
  (2)オゾンの水への溶解特性
 3.OHラジカルの特性
  (1)OHラジカルとは
  (2)OHラジカルの発生方法
  (3)スカベンジャとは
 4.オゾンの発生方法


�U.オゾン水処理技術の応用

 1.オゾン処理
  (1)浄水処理
  (2)下排水処理
  (3)汚泥処理
 2.オゾンを用いた促進酸化処理
  (1)浄水処理
  (2)地下水処理
  (3)下排水処理
 3.オゾン発生器の開発動向
 4.オゾンの海外での応用動向


�V.オゾン水処理技術の水リサイクル技術への展開

 1.水資源
 2.事業所の水リサイクル
  (1)水リサイクルを検討するにあたって
  (2)水リサイクル検討の手順
 3.事業所の水リサイクルの検討例
  (1)家電事業所における水リサイクル
  (2)半導体事業所における水リサイクル


�W.質疑応答
−名刺交換会−
セミナー終了後、ご希望の方はお残り頂き、講師と参加者間での名刺交換会を実施させて頂きます。

関連セミナー実績

2010. 8.27 OHラジカルの生成法と環境浄化への応用技術
2010. 4.21 オゾンによる水処理技術の開発動向
2009. 8.20 OHラジカル類・オゾンの生成法と環境浄化・殺菌
2008. 9.12 OHラジカルの生成法と環境浄化への応用
2007.10.11 OHラジカルの生成法と環境浄化への応用