セミナーコード：20171003　　　　このセミナーの受付は終了しています
≫「関連セミナー実績」

※別画面で開きます

★本セミナーでは、オゾンとOHラジカルの特性から設備設計の留意点、具体的な各種水処理 　（浄水・下水・排水・地下水・汚泥処理）への応用技術について、実務の第一線でご活躍中の 　高橋氏、安永氏、両講師に詳しく解説頂きます。

オゾン・OHラジカルによる水処理技術と応用展開の実際

●講　師	メタウォーター株式会社 プラントエンジニアリング事業本部 水道技術部　担当部長 技術士（上下水道部門）	高橋龍太郎 氏
	＜講師紹介＞ 1989年富士電機株式会社入社。 上下水、民需のオゾンプラントのエンジニアリングに従事。 2002年〜2006年、浄水膜ろ過装置の開発設計。 2008年 メタウォーター株式会社。 各種水処理プロセス、オゾン発生装置の開発及び 国内外のオゾン設備のエンジニアリングに従事。
●講　師	三菱電機株式会社　神戸製作所 社会システム第一部　主席技師長 工学博士	安永　望 氏
	＜講師紹介＞ 2007年-2016年 高濃度オゾン水処理技術の開発に従事。 ｢オゾン・OHラジカル関係」業務の経験年数：21年
●日　時	２０１７年　１０月　２４日（火）　１０：００〜１６：３０
●会　場	東京・新お茶の水・連合会館（旧 総評会館）・４Ｆ会議室　　》》 会場地図はこちら 《《 ※急ぎのご連絡は(株)技術情報センター(TEL06-6358-0141)まで！！
●受講料	４９,６８０円（１名につき） （同時複数人数お申込みの場合１名につき４４,２８０円） ※テキスト代、昼食代、お茶代、消費税を含む ＜アカデミック割引＞ 【大学等の学校法人格を有している団体に在籍する方には割引制度がございます。 　詳しくはこちらをご覧いただくか06-6358-0141までお問い合わせ下さいませ。】
●主　催	(株)技術情報センター

●セミナープログラム●

10:00 | 12:30	�T．オゾン水処理技術の基礎と応用 【習得知識】 オゾンの基礎知識（反応特性、利用法） オゾン関連機器の原理、システム技術 オゾン水処理技術の基礎と応用 【講師の言葉】 　オゾンは、上下水道をはじめ、排水処理やプール、食品、医療、半導体関連など様々な分野で利用されています。今回の講演では、オゾンの特性や取扱いの基本について初心者でも理解できるよう解説すると同時に、オゾン水処理のプロセス、設備の設計について実務に役立つ内容を紹介します。 【プログラム】 　１．基礎編 　　(1)オゾンの基礎 　　　�@オゾンの性質 　　　�Aオゾンの利用用途（概論） 　　　�Bオゾンの安全な取扱いについて 　２．設備編 　　(1)オゾン発生方法（無声放電） 　　　�@無声放電によるオゾン発生 　　　�Aオゾン発生装置の進歩 　　(2)オゾン処理設備 　　　�@オゾン発生装置の機器構成 　　　�Aオゾン反応槽の種類と設計方法 　　　�B排オゾン処理装置の方式と特徴 　３．プロセス編 　　(1)オゾンの上下水分野への適用 　　　�@上水プロセス編 　　　�A下水プロセス編 　　(2)オゾンによる水処理 　　　�@排水処理への適用とその設計手法 　　　�AAOPを利用した水処理（実用例） 　４．質疑応答・名刺交換 （高橋 氏）
13:30 | 16:30	�U．オゾン・OHラジカルによる水処理技術とその応用展開 【習得知識】 「オゾン・OHラジカルを用いた水処理技術」 「オゾン・OHラジカルの反応特性」 【講師の言葉】 　オゾンは酸化力が強い反面､分解して酸素に戻るため残留性がなく、環境への負荷は非常に小さいです。 さらにオゾンの分解によって生じるOHラジカルは、オゾンよりも酸化力が強く、難分解性物質の分解も期待できます。オゾンの反応には選択性がありますが、OHラジカルの反応には選択性がないため、これを利用した水処理技術の反応制御は難しくなります｡ 　今回の講演において、OHラジカルの特徴を丁寧に解説し、オゾンやOHラジカルを用いた水処理技術の留意点や実例を紹介します。さらに、オゾンやOHラジカルを用いた新しい水処理方法として、膜分離や放電を利用した水処理技術についても解説します。併せて、出席者の方の個別の質問、要望等にもお答えします。 【プログラム】 　１．OHラジカルの特性 　　(1)OHラジカルの特性 　　　�@OHラジカルとは 　　　�AOHラジカルの発生方法 　　　�BOHラジカル濃度の測定方法 　　　�Cオゾンと促進酸化処理の組合せ 　２．オゾン・OHラジカルを用いた水処理技術 　　(1)オゾン処理 　　　�@浄水処理 　　　�A下水処理 　　　�B汚泥処理 　　　�Cオゾンとマイクロバブルの組合せ 　　(2)オゾンを用いた促進酸化処理 　　　�@浄水処理 　　　�A地下水処理 　　　�B下水処理 　３．オゾン・OHラジカルを用いた水処理技術の水再生への展開 　　(1)事業所の水リサイクル 　　　�@家電事業所における水再生検討 　　　�A半導体事業所における水再生検討 　　(2)水中放電を利用した水処理 　　　�@水中放電によるラジカル発生 　　　�A水中放電による殺菌特性 　　　�B気液界面放電による水処理技術 　　(3)オゾンを用いた膜分離バイオリアクタ（Eco-MBR） 　　　�@省エネ型の膜分離バイオリアクタの特長 　　　�Aオゾンによる膜洗浄効果 　４．質疑応答・名刺交換 （安永 氏）
− 名 刺 交 換 な ど − セミナー終了後、ご希望の方はお残りいただき、 講師とご受講者間での名刺交換ならびに講師へ個別質問をお受けいたします。

関連セミナー実績 2016.10.21 オゾン・OHラジカルによる水処理技術と応用